HexaTech lancia substrato di nitruro di alluminio da 3 pollici, accelerando la produzione di dispositivi ad alta potenza

HexaTech accelera la roadmap delle elettroniche di potenza con un substrato di nitruro di alluminio da 3 pollici

HexaTech, Inc. ha annunciato la produzione immediata del nuovo substrato di nitruro di alluminio (AlN) monocristallino da 3 pollici (76,2 mm) di diametro. L’espansione dal formato di 2 pollici già consolidato rappresenta un passo strategico verso il substrato da 100 mm, dimensione fondamentale per la produzione in serie di dispositivi ad alta tensione e frequenza, impiegati in reti elettriche, veicoli elettrici, sistemi RF e elettronica di difesa.

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Essendo il principale fornitore commerciale di substrati AlN coltivati tramite trasporto di vapore fisico (PVT), HexaTech non solo aumenta la dimensione del substrato ma migliora anche la fattibilità produttiva e l’efficienza dei costi. I diametri più grandi riducono tipicamente il costo per dispositivo e aumentano il throughput.

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“Con il lancio del substrato da 3 pollici, HexaTech continua a consolidare la sua esperienza nella produzione di materiali AlN con qualità strutturale e superficiale di livello industriale, mantenendo le prestazioni senza difetti macro che abbiamo offerto per molti anni con la piattaforma da 2 pollici,” ha dichiarato il responsabile R&S, Dr. Rafael Dalmau.

Gregory Mills, vicepresidente dello sviluppo commerciale di HexaTech, ha osservato: “HexaTech continua a generare valore offrendo qualità superiore e riducendo il prezzo per unità di area ai nostri clienti. Questa tendenza accelerata permetterà ai clienti di passare rapidamente dalla ricerca allo sviluppo di produzione.”

“Con il nostro focus strategico sull’espansione del diametro del substrato, questo lancio dimostra ancora una volta l’impegno di HexaTech a fornire ai clienti la soluzione di substrato AlN leader di mercato,” ha commentato il CEO John Goehrke.

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Fonti

Fonte: Alcircle – HexaTech 3‑inch AlN Substrate Launch

Approfondimento

Il nitruro di alluminio è un materiale semiconduttore con eccellenti proprietà termiche e di isolamento, ideale per dispositivi ad alta potenza. La produzione di substrati monocristallini tramite PVT garantisce una struttura cristallina uniforme, riducendo i difetti che possono compromettere le prestazioni dei dispositivi.

Dati principali

Di seguito una sintesi delle dimensioni e delle potenzialità di mercato:

Possibili Conseguenze

L’introduzione di substrati più grandi può ridurre i costi di produzione per dispositivo, accelerare la transizione dalla ricerca alla produzione e aumentare la competitività dei prodotti sul mercato globale. Inoltre, la maggiore efficienza termica può migliorare l’affidabilità e la durata dei dispositivi ad alta potenza.

Opinione

Il testo originale presenta dichiarazioni promozionali da parte dei dirigenti di HexaTech. Le affermazioni riguardanti la qualità e i costi sono presentate come vantaggi competitivi, ma non sono supportate da dati quantitativi indipendenti.

Analisi Critica (dei Fatti)

Il documento conferma la produzione di un substrato AlN da 3 pollici, ma non fornisce dettagli tecnici sul processo di crescita, sulla purezza del materiale o sui risultati di test di performance. Le dichiarazioni sul miglioramento dei costi e della produttività sono basate su affermazioni aziendali senza dati di terze parti.

Relazioni (con altri fatti)

Il lancio di substrati più grandi è in linea con la tendenza del settore verso componenti più efficienti e a costi ridotti. Altri produttori di semiconduttori stanno investendo in tecnologie di crescita PVT per migliorare la qualità dei substrati AlN.

Contesto (oggettivo)

Il mercato globale dell’alluminio e dei suoi derivati è in crescita, con una domanda crescente di componenti ad alta potenza per le infrastrutture energetiche e i veicoli elettrici. La capacità di produrre substrati AlN di dimensioni maggiori è un fattore chiave per soddisfare le esigenze di produzione in serie di questi settori.

Domande Frequenti

• Qual è la dimensione del nuovo substrato AlN di HexaTech? Il nuovo substrato ha un diametro di 3 pollici (76,2 mm).
• Quali vantaggi offre l’aumento del diametro del substrato? Un diametro più grande riduce il costo per dispositivo e aumenta il throughput di produzione.
• Quali settori beneficiano di questo nuovo substrato? Reti elettriche, veicoli elettrici, sistemi RF e elettronica di difesa.
• Qual è la tecnologia di crescita utilizzata? Il substrato è coltivato tramite trasporto di vapore fisico (PVT).
• Dove posso trovare maggiori informazioni sul prodotto? Sul sito di Alcircle, nella sezione dedicata ai prodotti B2B.