India lancia impianto dimostrativo per recuperare Metal‑G dalla raffineria di alumina: passo verso l’autosufficienza dei semiconduttori
Introduzione
Il 20 novembre 2025 è stato inaugurato il sito di costruzione di un impianto dimostrativo per il recupero del metallo G (Metal‑G) dal liquido residuo di una raffineria di alumina di NALCO, a Damanjodi, Odisha. L’iniziativa è frutto della collaborazione tra il Heavy Water Board (HWB) e il Bhabha Atomic Research Centre (BARC) e si basa sul processo di scambio ionico (Ion‑Exchange, IX).
Dettagli dell’evento
La cerimonia di scavo è stata condotta da Shri S. Satyakumar, Presidente e Amministratore Delegato del HWB, e da Shri Brijendra Pratap Singh, Presidente e Amministratore Delegato di NALCO. Tra i presenti c’erano il Dr Raghvendra Tiwari, Direttore del Material Group del BARC, e Jagdish Arora, Direttore (P&T) di NALCO, oltre a rappresentanti di HWB, BARC e NALCO.

Obiettivi tecnici e strategici
Il progetto mira a recuperare il Metal‑G, un elemento con basso punto di fusione e alto punto di ebollizione, utilizzato nella produzione di semiconduttori ad alta velocità e circuiti integrati per applicazioni spaziali e difensive. Il recupero del metallo dal liquido residuo ridurrebbe la dipendenza dalle importazioni per le esigenze del settore dei semiconduttori indiano, contribuendo all’obiettivo di “Atmanirbhar Bharat” (India autosufficiente).
Fonti
Fonte originale: Press Information Bureau – Dipartimento dell’Energia Atomica. Pubblicazione su AL Circle.
Approfondimento
Il processo di scambio ionico utilizza resine speciali e solventi sviluppati in Italia per separare il Metal‑G dal liquido residuo. La tecnologia è stata testata in laboratorio e ora viene implementata in un impianto dimostrativo per valutarne l’efficienza su scala industriale.
Dati principali
| Elemento | Valore |
|---|---|
| Data della cerimonia | 20 novembre 2025 |
| Luogo | Raffineria NALCO, Damanjodi, Odisha |
| Partecipanti principali | Shri S. Satyakumar (HWB), Shri Brijendra Pratap Singh (NALCO) |
| Tecnologia | Scambio ionico (Ion‑Exchange) |
| Obiettivo | Recupero del Metal‑G dal liquido residuo |
| Impatto previsto | Riduzione delle importazioni di metalli per semiconduttori |
Possibili conseguenze
Se l’impianto dimostrativo dimostra efficienza, l’India potrebbe:
- Ridurre la dipendenza da fornitori esteri di metalli per semiconduttori.
- Promuovere la produzione di componenti elettronici a livello nazionale.
- Contribuire alla riduzione delle emissioni legate al trasporto di metalli.
- Stimolare investimenti in ricerca e sviluppo di tecnologie di recupero.
Opinione
Secondo le dichiarazioni ufficiali, l’iniziativa rappresenta un passo significativo verso l’autosufficienza tecnologica e la sostenibilità ambientale. Non si esprime giudizio personale, ma si evidenzia l’importanza strategica del progetto.
Analisi critica (dei fatti)
Il progetto è il primo di questo tipo in India e si basa su tecnologie sviluppate internamente. Tuttavia, al momento non sono disponibili dati quantitativi sull’efficienza operativa o sul rendimento del recupero del Metal‑G. La riuscita dell’impianto dipenderà dalla scalabilità del processo e dalla gestione dei costi.
Relazioni (con altri fatti)
Il recupero del Metal‑G si inserisce in un più ampio contesto di iniziative verdi, come la mappatura di un percorso di alumina sostenibile da parte di NALCO entro il 2030. L’evento è collegato anche a discussioni sul potenziale ampliamento dell’uso del carbone, evidenziato in altre comunicazioni di NALCO.
Contesto (oggettivo)
Il Heavy Water Board è responsabile della produzione di acqua pesante per la ricerca nucleare. Il Bhabha Atomic Research Centre è un centro di ricerca nucleare di rilievo. NALCO è una delle principali raffinerie di alumina in India, con impianti situati in Odisha. Il progetto di recupero del Metal‑G si colloca all’intersezione tra industria chimica, ricerca nucleare e sviluppo tecnologico dei semiconduttori.
Domande frequenti
- Che cosa è il Metal‑G? È un metallo con basso punto di fusione e alto punto di ebollizione, utilizzato nella produzione di semiconduttori ad alta velocità e circuiti integrati per applicazioni spaziali e difensive.
- Qual è lo scopo dell’impianto dimostrativo? Recuperare il Metal‑G dal liquido residuo di una raffineria di alumina, riducendo la dipendenza dalle importazioni e promuovendo la produzione nazionale di semiconduttori.
- <strongChi ha partecipato alla cerimonia di scavo? Il Presidente e Amministratore Delegato del HWB, Shri S. Satyakumar, e il Presidente e Amministratore Delegato di NALCO, Shri Brijendra Pratap Singh, insieme a rappresentanti di BARC, HWB e NALCO.
- <strongQual è la tecnologia utilizzata? Il processo di scambio ionico (Ion‑Exchange) con resine speciali e solventi sviluppati internamente.
- <strongQuali sono i benefici attesi? Riduzione delle importazioni di metalli per semiconduttori, promozione della produzione nazionale, riduzione delle emissioni e stimolo all’investimento in ricerca e sviluppo.



Commento all'articolo